鍍鉻添加劑提高鍍液分散能力和覆蓋能力
來源：feral007.com 發(fā)表時(shí)間：2017-07-25
影響鍍液分散能力的固素主要有兩個(gè)電流密度和電流效率。對(duì)一定鍍液而言，電流效率除與電鍍過程中的副反應(yīng)(析氫反應(yīng))有關(guān)外，更多地依賴于電流密度的分布。因而電流分布的均勻程度直接影響著鍍層的均勻程度。鍍件的深孑L和凹處能否鍍上金屬主要由放電離子的析出電位和該處電流密度大小決定，析出電位越正，越易沉積。通過加入能增大陰化作用的添加劑，促使用電流分布均勻，并在鍍層質(zhì)量的前提下，盡可能使析出電位正移，以達(dá)到既提高分散能力和覆蓋能力，又可獲得致密鍍層的目的。此類添加劑主要有：氟化物、氟硼酸鹽、氟硅酸鹽、稀土、鹵代有機(jī)酸、碘酸鉀與有機(jī)添加劑混合以及含氮有機(jī)雜環(huán)化合物與無機(jī)鹽合用的BHCrl添加劑等。
稀土的作用是：鍍液中加入稀土后，有利于陰表面膜的形成和加強(qiáng)，增加膜的鈍化性，使提高。覆蓋能力得到改善則是由于稀土離子在陰表面的吸附，使金屬鉻析出電位正移，鉻析的電流密度降低，從而可在被鍍零件的深凹部位低電流密度區(qū)有鉻沉積。將碘酸鉀與含氮有機(jī)酸混合添加，由于碘酸鉀對(duì)于受鍍表面有一定的活化作用，從而使其表面真實(shí)電流得以提高，避免廠低電流區(qū)不能正常析鉻現(xiàn)象，同時(shí)使鍍液的導(dǎo)電能力增加，因此提高了鍍液的分散和覆蓋能力；加入BHCrl添加劑后，其所形成的混合陰膠體膜在陰表面發(fā)生吸附，由于膜荷正電，在高電流密度處，吸附的添加劑多，形成的膜厚度尢而低電流密度處，吸附的添加劑量少，形成的膜厚度小。膜厚處反應(yīng)阻力大，發(fā)生電沉積時(shí)，金屬Cr的沉積較少，因此使分散能力提高。
由以上分析可知，?。荷显刂饕蕴岣哧幈砻娴拟g化能力來提高鍍液的分散能力，而碘酸鉀以提高陰表面的活性以提高鍍液的分散力，稀土與碘酸鉀不能同時(shí)作為提高鍍液分散能力的添加劑，筆者認(rèn)為以加稀土元素來提高鍍液的分散能力較佳。
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